APA Style
Dwijananti, P. (1996).
Penentuan Profil Konsentrasi Ion Dopan Pada Lapisan Semikonduktor Silikon Diimplantasi Dengan Ion Fosfor Tenaga 30 keV dan 60 keV .
Yogyakarta:
Universitas Gadjah Mada.
MLA Style
Dwijananti, Pratiwi.
"Penentuan Profil Konsentrasi Ion Dopan Pada Lapisan Semikonduktor Silikon Diimplantasi Dengan Ion Fosfor Tenaga 30 keV dan 60 keV".
Yogyakarta:
Universitas Gadjah Mada,
1996.
Text.